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　　快科技6月9日动静，杭州璞璘科技（Prinano）近日通过微信号颁布发表，取深圳力策科技合做采用自从研发的实空气压式纳米压印方案，实现8英寸光芯片可规模化量产验证。 据报道，该手艺完全绕开保守深紫。

　　为深切贯彻党的二十大、帮帮企业拓市场的要求，强化担任。

　　完全绕开ASML深紫外光刻线！国产实空气压式晶圆级纳米压印光刻机成本降至DUV 1/10。

　　早正在前年，光刻机巨头就发布了High-NA EUV光刻机， 是之前Low-NA EUV光刻机的升级版。 取之前的EUV光刻机比拟，这种光刻机的数值孔径从0。33，提拔至了0。55。好。